分析去离子水设备能去除水中的杂质有哪些

      去离子水设备的功能很全面，所以深度很多客户的青睐，那么去离子水设备能去除水中的哪些杂质呢？

       无锡市安吉尔水处理工程有限公司是一个以膜分离技术为中心，致力于水处理高科技产品的生产、销售、服务为一体的联合体，是海洋局第二海洋研究所和江南大学的水处理设备紧密合作单位。

      今天安吉尔的小编来为大家讲解一下：分析去离子水设备能去除水中的杂质有哪些：

      1.溶解的无机盐。

有钠、钙、镁等盐类，溶于水形成正离子。当含有这些离子的水冲洗半导体设备时，这些不纯物会扩散到集成电路表面，造成短路。过去，去除水中的无机盐是蒸馏水，但它是三次蒸馏水。水的阻力只有3兆欧元-厘米，水中仍含有超过01ppm的NaCl。最近有用反渗透法去除离子体。因此，必须用离子交换树脂。阳离子交换脂和阴离子交换树脂分别使用，易于再生，混合床离子交换树脂用于离子交换的最终水平，起到控制的作用。

      2.溶解的有机物。

有工业排污、清洁剂、生物分解物和微生物的新陈代谢产物。这些可以通过活性炭吸附方法去除。碳床应该放在离子交换树脂之前，因为活性炭本身会带来杂质。进入树脂床的水必须首先去除有机物。离子交换树脂容易被有机物(腐殖酸等)污染。反渗透可去除分子量在300以上的有机物，分子量在300以下的有机物可去除90%。

      3、颗粒物质。

      很多地方容易产生炭床、树脂床、深层过滤等设备。用几种方法达到高阻率，但没有有有效地去除颗粒物质。这会使半导体设备出现针孔、短路、断路、内部破坏、光导致腐蚀剂脱落等缺陷。除去颗粒物质，只需用膜过滤，一般标准是用孔径为0.45微米的微孔过滤膜，特别需要用孔径为0.22微米的微孔过滤膜，除去胶体铁、胶体硅和小细菌。反渗透也能去除小颗粒。

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